純硅模具

以單晶硅為材質，利用高能束轟擊襯底得到需要的高深寬比結構，該方法可以彌補光刻膠在高深寬方面的不足之處。

1.微納加工——純硅模具工藝流程

（a）硅片的清洗、烘干

（b）熱生長氧化層

（c）涂光刻膠

（d）光刻

（e）顯影

（f）去除氧化層

（g）ICP深刻蝕

（h）去除光刻膠

2.純硅模具加工說明

2.1一般采用正性光刻膠

正膠的優(yōu)點：易去膠。

2.2刻蝕的流道截面不是標準的矩形

2.3刻蝕面較粗糙，刻蝕深度越深粗糙度越大

3.硅片模具

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