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現(xiàn)代光刻工藝研發(fā)各部分的職責和協(xié)作

從最早被用于電路制造,光刻技術的發(fā)展已經(jīng)走過了半個多世紀。在過去的半個多世紀中,除了光刻設備、材料和工藝的不斷發(fā)展以外,光刻工程技術人員工作的職責和方式也在不斷演化。首先是光刻機越來越復雜和昂貴,僅靠Fab的光刻工程師,已經(jīng)不能完全運行和維護光刻設備并充分發(fā)揮其產(chǎn)能,F(xiàn)ab離不開光刻設備供應商對光刻機使用的支持。這種技術支持超過了傳統(tǒng)的使用培訓、故障維修、而是深入?yún)⑴c到光刻工藝研發(fā)中,為工藝中的難點提供解決方案。

光刻設備

    光刻材料也已經(jīng)不再局限于光刻膠,而是包括抗反射層、含Si的抗反射層、旋涂的有機碳等眾多新型材料。這些新型材料在使用過程中很容易出現(xiàn)各種問題,例如,旋涂后產(chǎn)生較多的顆粒和缺陷,何種過濾器最有效。這些問題的解決都必須有材料供應商的參與。在測量方面,電子顯微鏡一直被用于光刻膠上關鍵線寬的測量。高能量的電子束會損傷光刻膠,使光刻膠線條收縮,一般會導致4~5nm的測量偏差。這一偏差在32nm技術節(jié)點以下是不能接受的。如何改進測量程序、修正這種測量偏差也不是晶圓廠計量工程師(metrology engineer)獨自能完成的,需要測量設備生產(chǎn)商專業(yè)技術人員的參與。

晶圓廠光刻內(nèi)部的分工以及各單位之間的交叉和牽制

    Fab的光刻部門分為研發(fā)(technologydevelopment,TD)和生產(chǎn)(manufacturing)。這里側重討論光刻研發(fā)部門。Fab光刻研發(fā)部門內(nèi)部一般分為若干個工作小組,這是按工作任務來劃分的。下表是晶圓廠光刻研發(fā)部門內(nèi)部的組織機構。對于光刻生產(chǎn)部門,其主要精力是維持生產(chǎn),其組織結構和下表略有不同。

工作小組

職責

設備應用

equipment applications

1.負責光刻機和勻膠顯影機的性能監(jiān)控。發(fā)現(xiàn)問題及時停機,并協(xié)調(diào)設備供應商解決
2.建立光刻機工作文件(scanner job file)和勻膠顯影機菜單文件(track recipe)
3.協(xié)助工藝工程師發(fā)現(xiàn)和解決工藝中與設備相關連的問題

光刻工藝

process

1. 光刻工藝研發(fā)(layer  owner)、向工藝集成提供符合要求的光刻工藝

2. 收集晶圓數(shù)據(jù)、工藝窗口評估。對OPC、新材料、新設備提出要求

測量

metrology

1.負責CD-SEM和套刻誤差測量儀器的監(jiān)控,發(fā)現(xiàn)問題及時停機,并協(xié)助設備供應商解決
2.研發(fā)和優(yōu)化測量程序中的參數(shù)、校準測量值、尋找最佳測量方法
3.幫助layer owner 建立測量程序

工廠系統(tǒng)

factory system

1.負責光刻內(nèi)部設備之間的數(shù)據(jù)通信管理、協(xié)調(diào)工廠系統(tǒng)
2.APC(automatic process control)系統(tǒng)的設置和監(jiān)控
3.協(xié)助layer owner發(fā)現(xiàn)和解決工藝中與APC系統(tǒng)相關連的問題

layout數(shù)據(jù)處理

OPC/tapeout

1.負責建模、OPC、驗證OPC結果、向layer  owner提供hotspot及PV-band等數(shù)據(jù)
2.協(xié)調(diào)和領導OPC學習循環(huán)(OPC learning cycle)
3.和layer owner及工藝集成工程師討論,做出kerf設計,并tapeout掩模版

掩模管理

mask-management

1.協(xié)調(diào)訂購、接收掩模版。對掩模版供應商的質(zhì)量做評估
2.管理生產(chǎn)線上的掩模版,并負責掩模版的清洗和替換

光刻預研

pre-development/path finder

負責前期預研,比正常研發(fā)一般提前1-2個節(jié)點
1.確定技術路線圖,包括下一個技術節(jié)點使用什么設備(配置)、光刻材料、工藝、OPC解決方法等
2.和業(yè)界交流對比,確保本部門的光刻技術符合主流并走在前列

 

光刻是一個工藝單元,其工作的重心是支持工藝集成,為工藝集成提供圖形解決方案(patterning solutions),爭取及早實現(xiàn)器件的產(chǎn)額(Yield)。根據(jù)支持工藝集成的直接和間接程度,光刻部門內(nèi)的工作分為一、二、三線,第一線的部門以工藝組為主,也包括掩模管理組和測量組。工藝組中的工程師就是所謂的“l(fā)ayer owner”,即每人負責幾個光刻層,一般是工藝技術類似的幾個光刻層?!發(fā)ayer owner”協(xié)調(diào)內(nèi)部資源、負責光刻工藝的設置、支持工藝集成。掩模管理和工藝集成的交集也很多,因為一個工藝流程中需要多少層掩模版、每一層掩模什么時候需要都是由工藝集成工程師掌握的。測量組也需要時常直接支持工藝集成,因為在工藝流程中測量是作為獨立的步驟存在的。二線部門的主要任務是為一線部門提供設備、材料和數(shù)據(jù)系統(tǒng)使用方面的支持。

在日常工作中,工藝工程師通常可以解決大多數(shù)制程中出現(xiàn)的問題。存在一小部分問題需要比較深入的設備、材料、數(shù)據(jù)系統(tǒng)的支持,這時二線的工程師就必須參與,甚至通過二線工程師把設備或材料供應商的專業(yè)技術人員引入討論,三線是先導研發(fā)或者叫預研,為下一個技術節(jié)點尋找光刻的技術方向。

(文章來源:半導體光刻技術 科學網(wǎng)科學網(wǎng)轉(zhuǎn)載僅供參考學習及傳遞有用信息,版權歸原作者所有,如侵犯權益,請聯(lián)系刪除)

 


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