勻膠機旋涂儀對于從事微流控領域的研究者來說并不陌生，它可以用來制備膜厚度<10nm薄膜，在1-100um厚度的光刻膠沉積光刻工藝中也常常用到。在微流控領域，載玻片、硅片、ITO導電玻璃等都可作為薄膜涂覆基底材料。其原理簡單來講，通過片托產(chǎn)生負壓，將需旋涂基底材料吸附在片托上，然后將涂覆材料膠液滴注在基底材料表面，通過調(diào)節(jié)電機轉速，來改變離心力大小，同時控制膠液流量，從而獲得想要的膜厚度，當然，膜厚度還跟旋涂時間、膠液粘度、溫度以及濕度等因素有關。

1、勻膠機性能相關的幾個參數(shù)

（1）片托材質(zhì)：目前大部分勻膠機片托材質(zhì)采用的一般是鋁合金或者是普通塑料，原因是成本低，對于一般要求是能夠滿足需求的，但是對于要求比較嚴苛行業(yè)來說，比如半導體以及化工行業(yè)，由于鋁合金抗腐蝕性不是很好，高溫和高壓會導致塑料你變形等原因，對于片托的要求就比較高，目前一般采用天然聚丙烯以及聚四氟乙烯材料，原因是這兩種具有材質(zhì)綠色環(huán)保、重量輕、強度大，堅固耐用以及抗沖擊性能好等優(yōu)點。

（2）真空吸附以及清洗系統(tǒng)：真空泵系統(tǒng)壓力標定需準確，若實際壓力降低，可能會存在飛片現(xiàn)象，容易產(chǎn)生實驗事故。使用完旋涂儀后，需在泵開啟狀態(tài)，用有機溶劑進行氣孔清洗，確保下次正常使用。

（3）旋轉速度：轉速高低和精度控制將直接關系到后續(xù)選涂層的厚度以及膜層均勻性。因而標示的轉速和電機實際轉速之間誤差需盡可能縮小，否則對于使用者來說無法獲得有用的實驗數(shù)據(jù)。

2、哪些操作行為能影響旋涂膜層厚度？

（1）膠滴滴注在基底材料表面，膠滴量需遠遠大于最終涂覆在表面的膠液量。

（2）在恒定的時間，可通過改變旋轉基底速度，改變薄膜厚度。

（3）以恒定的速率和時長旋轉基底，可通過膠液揮發(fā)性能影響膜厚度。

（4）通過快速加速，使基底轉速快速達到設定的理想轉速。

（5）保持旋涂速率不變，可通過改變基底旋涂時間，改變薄膜厚度。

（6）保持恒定速率以及旋轉基底時長，可通過改變膠液粘度力來改變膜厚。

3.周邊配套可選加工設備