1．經(jīng)典的光刻技術

適合硅、玻璃、石英等材料，與傳統(tǒng)的半導體工業(yè)的方法一致。

分為濕法和干法兩種，干法的分辨率較濕法高，相應的制造成本也高。

2．模版澆注法（模塑法）

適合聚合物材料。

大批量生產(chǎn)時成本低。

3．模版熱壓法

 適合熱塑性聚合物。

4.激光刻蝕法

用激光直接在聚合物或玻璃上加熱形成微結構

所需儀器設備

光刻機:光刻機/紫外曝光機（Mask Aligner) 又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。常用的光刻機是掩膜對準光刻，所以叫 Mask Alignment System.

一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序

Photolithography（光刻） 意思是用光來制作一個圖形（工藝）；

在硅片表面勻膠，然后將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件或電路結構臨時“復制”到硅片上的過程。

等離子清洗機(plasma cleaner):也叫等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術，利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質的一種狀態(tài)，也叫做物質的第四態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，從而實現(xiàn)清潔等目的。

數(shù)控機床:是數(shù)字控制機床（Computer numerical control machine tools）的簡稱，是一種裝有程序控制系統(tǒng)的自動化機床。該控制系統(tǒng)能夠邏輯地處理具有控制編碼或其他符號指令規(guī)定的程序，并將其譯碼，用代碼化的數(shù)字表示，通過信息載體輸入數(shù)控裝置。經(jīng)運算處理由數(shù)控裝置發(fā)出各種控制信號，控制機床的動作，按圖紙要求的形狀和尺寸，自動地將零件加工出來。數(shù)控機床較好地解決了復雜、精密、小批量、多品種的零件加工問題，是一種柔性的、高效能的自動化機床，代表了現(xiàn)代機床控制技術的發(fā)展方向，是一種典型的機電一體化產(chǎn)品。

注射泵：注射泵由步進電機及其驅動器、絲桿和支架等構成，具有往復移動的絲桿、螺母，因此也稱為絲桿泵。螺母與注射器的活塞相連，注射器里盛放藥液，實現(xiàn)高精度，平穩(wěn)無脈動的液體傳輸。