• SU-8光刻膠模具會用到模具，尤其是在PDMS芯片加工的過程中。PDMS芯片加工通常采用軟光刻技術(shù)來制作。為了執(zhí)行PDMS軟光刻技術(shù)的加工過程，通常需要用到模板，最常...2026-04-10 23:06:25
• 光刻加工光刻技術(shù)圖形轉(zhuǎn)移工藝光刻工藝（Photoetching or Lithography）是一種圖像復(fù)印技術(shù)，利用光刻膠感光后特性發(fā)生改變的原理，將光刻掩...2026-04-10 23:06:25
• Microchem SU-8光刻膠 2000系列SU 8光刻膠系列產(chǎn)品簡介新型的化學(xué)增幅型負(fù)像 SU- 8?膠是一種負(fù)性、環(huán)氧樹脂型、近紫外線光刻膠，克服了普通光刻膠采用 UV光刻導(dǎo)致的深寬比不足的問題，...2024-03-28 10:07:48
• 正性光刻對掩膜版的要求在正性光刻過程中，掩膜版（Photomask）作為圖形轉(zhuǎn)移的關(guān)鍵工具，其性能直接影響到最終圖形的精確度和質(zhì)量。以下是正性光刻對掩膜版的主要要求：圖案準(zhǔn)確性...2025-12-18 14:49:53
• 2026年光刻膠市場格局分析，選型參考！隨著2026年全球半導(dǎo)體市場回暖，光刻膠作為“電子工業(yè)皇冠上的明珠”，其技術(shù)路線與供應(yīng)鏈格局正在發(fā)生深刻變革。從EUV光刻膠的突破到KrF、ArF的國產(chǎn)化替代，行業(yè)熱點(diǎn)層出不窮。然而...2026-04-09 11:20:48
• 光刻膠勻膠過程氣泡產(chǎn)生的原因分析很多實(shí)驗(yàn)者在使用勻膠機(jī)進(jìn)行光刻膠勻膠過程中有氣泡產(chǎn)生，嚴(yán)重影響了實(shí)驗(yàn)效果，那么勻膠過程中為什么會產(chǎn)品氣泡呢？有哪些方法可以減少氣泡的產(chǎn)生？如果氣泡產(chǎn)生了有什么好的辦法消除氣泡...2025-07-28 10:46:08
• 為什么微流控光刻工藝要用黃光?光刻是微流控芯片制造中的重要工藝之一。簡單來說，它是通過使用光掩膜和光刻膠在基板上復(fù)制流體圖案的過程?；鍖⑼扛补瓒趸瘜咏^緣層和光刻膠。光刻膠在被紫...2025-06-16 09:43:59
• 光刻工藝中的顯影技術(shù)一、光刻工藝概述光刻工藝是半導(dǎo)體制造的核心技術(shù)，通過光刻膠在特殊波長光線或者電子束下發(fā)生化學(xué)變化，再經(jīng)過曝光、顯影、刻蝕等工藝過程，將設(shè)計(jì)在掩膜上的圖形...2025-06-09 09:41:00
• 光刻膠產(chǎn)業(yè)國內(nèi)發(fā)展現(xiàn)狀如果說最終制造出來的芯片是一道美食，那么光刻膠就是最初的重要原材料之一，而且是那種看起來可能不起眼，但卻能決定一道菜味道的關(guān)鍵輔料。光刻膠（photoresist），在業(yè)內(nèi)又被稱為光阻或光...2025-06-04 09:07:49
• 光刻掩膜版的儲存條件光刻掩膜版（Photomask）是光刻工藝中至關(guān)重要的工具，它直接影響到最終圖形的精確度和質(zhì)量。雖然直接關(guān)于光刻掩膜版的儲存條件的信息較少，但我們可以...2025-04-28 10:01:32