• 光刻加工10nm，多種光刻技術結合的先進光刻理念，實現(xiàn)客戶不同尺寸的光刻需求。旋涂技術旋涂技術的好壞直接影響到光刻的效果。汶顥提供專業(yè)的旋涂技術，樣品涵蓋1...2026-02-23 02:44:09
• 微流控勻膠機的使用范圍和特點導體工藝、制版及表面涂覆等，適用于科研、教育等單位進行科研和教學活動。旋涂技術的原理和應用旋涂技術是通過旋轉的基底上放置一小灘SU-8光刻膠，通過旋...2025-03-03 10:53:23
• 如何成功的旋涂微流控SU-8光刻膠？膠？基底上SU-8光刻膠的圖層可以通過若干種技術來完成。最常用的技術是旋涂技術，該技術是在旋轉的基底上放置一小灘SU-8光刻膠。旋轉速度、加速度和S...2024-08-26 09:48:48
• 如何成功進行微流控SU-8光刻膠的紫外曝光？膠曝光的過程中，可能會有一個巨大的后果。事實上，如果SU-8光刻膠通過旋涂技術來涂覆，那么在晶圓的周圍會有一個喇叭圖形。喇叭圖形的出現(xiàn)是由光刻膠的表...2024-08-23 08:57:36
• 勻膠機的兩種不同的旋涂方法：動態(tài)點膠和靜態(tài)點膠00rpm時，基材旋轉每0.1秒一次，與移液器快速下降相稱）。動態(tài)分配旋涂技術對于1000rpm 以上的大多數(shù)旋涂，除非有任何特殊情況或困難，否則應...2023-08-28 10:05:25
• 如何加工一個微流控芯片的環(huán)氧樹脂SU-8模具：SU-8模具制作的提示和技巧8光刻膠為了制造稍后要成為模具的光刻膠層，我們使用旋涂機來旋涂光刻膠。旋涂技術是經(jīng)常使用的一門用來制造所需光刻膠層厚度的技術。對于如何使用旋涂技術來...2023-07-28 08:53:56
• 微流控芯片用聚二甲基硅氧烷金屬沉積，氧化物沉積或表面功能化。在交聯(lián)過程中，PDMS可以使用簡單的旋涂技術在基材上涂覆可控的厚度，這允許加工多層器件及集成微閥。它是可變形的，允...2023-07-26 08:51:20
• 基于銀納米線導電材料的透明柔性電路18年54卷第39期的底封文章。研究人員首先在PDMS上進行實驗，利用旋涂技術將AgNWs溶液均勻地鋪展在經(jīng)過親水修飾的PDMS表面，透明柔性導電材...2018-05-31 08:54:47
• 微流控SU-8光刻膠的紫外曝光膠曝光的過程中，可能會有一個巨大的后果。事實上，如果SU-8光刻膠通過旋涂技術來涂覆，那么在晶圓的周圍會有一個喇叭圖形。喇叭圖形的出現(xiàn)是由光刻膠的表...2017-12-21 08:58:06
• 高精度勻膠機運行過程與注意事項勻膠旋涂技術（spin coating）已在許多領域取得廣泛應用。集成電路：在半導體，集成電路的光刻工藝中，將光刻膠涂覆在硅片，聚二甲基硅氧烷 （PDM...2017-12-20 09:35:21