• AZ 9260 光刻膠AZ光刻膠刻蝕厚度從1μm到150μm以及更厚。高感光度,高產(chǎn)出率；高附著性,特別為濕法刻蝕工藝改進；廣泛應(yīng)用于全球半導(dǎo)體行業(yè)。光刻膠產(chǎn)品型號及參數(shù)光...2024-03-28 10:31:40
• AZ 50XT 光刻膠AZ光刻膠刻蝕厚度從1μm到150μm以及更厚。高感光度,高產(chǎn)出率；高附著性,特別為濕法刻蝕工藝改進；廣泛應(yīng)用于全球半導(dǎo)體行業(yè)。光刻膠產(chǎn)品型號及參數(shù)光...2024-03-28 10:30:59
• AZ 5214E 光刻膠AZ光刻膠刻蝕厚度從1μm到150μm以及更厚。AZ光刻膠特點：適用于高分辨率工藝（lift-off工藝）適用于正/負圖形很寬的膜厚范圍AZ光刻膠工藝...2024-03-28 10:29:49
• AZ P4620 光刻膠AZ光刻膠刻蝕厚度從1μm到150μm以及更厚。高感光度,高產(chǎn)出率；高附著性,特別為濕法刻蝕工藝改進；廣泛應(yīng)用于全球半導(dǎo)體行業(yè)。AZ光刻膠特點：高對比...2024-03-28 10:29:14
• 光刻膠，選擇合適的烘烤溫度及時間。將晶片在顯影液中浸漬顯影，隨后用氮氣吹干。AZ光刻膠AZ光刻膠刻蝕厚度從1μm到150μm以及更厚。高感光度,高產(chǎn)出率；高...2024-03-28 10:18:53
• 正負光刻膠的缺點對比負性膠為有機溶液處理，不利于環(huán)境；正性膠屬于水溶液，對健康、環(huán)境無害。AZ光刻膠SU8光刻膠...2017-10-09 17:41:05
• 汶顥SU-8、AZ系列光刻膠簡介負性膠，可以形成臺階等結(jié)構(gòu)復(fù)雜的圖形；在電鍍時可以直接作為絕緣體使用。AZ光刻膠AZ光刻膠刻蝕厚度從1μm到150μm以及更厚。高感光度,高產(chǎn)出率；高...2016-10-09 10:06:28