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28nm節(jié)點(diǎn)浸沒式光刻機(jī)核心部件之一浸液系統(tǒng)入駐杭州青山湖科技城

光刻機(jī)

什么是光刻機(jī)?高端光刻機(jī)是集成電路配備中技能難度最高的關(guān)鍵設(shè)備,因此也被稱為人類技能開展的制高點(diǎn)和制作工業(yè)“皇冠上的明珠”。國外品牌主要以荷蘭ASML,日本Nikon和日本Canon三大品牌為主。我國是國際最大的芯片使用商場和進(jìn)口商場,而光刻機(jī)是我國完成芯片工業(yè)自主化最大的短板,國家02科技重大專項(xiàng)旨在打破國外獨(dú)占,打造具有自主知識產(chǎn)權(quán)的高端光刻機(jī)設(shè)備,關(guān)于我國芯片工業(yè)開展具有重大意義。

本次入駐的光刻機(jī)浸液體系項(xiàng)目擬在青山湖科技城核心區(qū)新增用地25畝,總投資5億元。項(xiàng)目整體規(guī)劃,一次建成,建造光刻機(jī)浸液體系產(chǎn)品研制與中試基地。與前期入駐的中電??荡判鎯π酒?xiàng)目毗連而建,在科技城構(gòu)成關(guān)鍵設(shè)備制造、芯片研制出產(chǎn)兩大集成電路工業(yè)項(xiàng)目龍頭。

浸液體系背景:浸液體系是浸沒式光刻機(jī)四大核心部件之一,是光刻機(jī)打破干式曝光物理極限向更小技能節(jié)點(diǎn)開展的標(biāo)志性技能?,F(xiàn)在,國際上僅荷蘭ASML和日本Nikon擁有浸液體系技能,且嚴(yán)厲保密,因而,我國有必要自主研制。

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