涂膠顯影設備是芯片制程中必不可少的處理設備，利用機械手實現(xiàn)晶圓在各系統(tǒng)間的傳輸和加工，與光刻機達成完美配合從而完成晶圓的光刻膠涂覆、固化、顯影等工藝過程。作為光刻機的輸入即曝光前光刻膠涂覆和輸出即曝光后圖形的顯影，涂膠顯影機的性能不僅對細微曝光處的形成造成直接影響，而且其顯影工藝的圖形質(zhì)量和誤差控制對后續(xù)蝕刻、離子注入工藝中的圖形轉移結果也有著深刻的影響。

   汶顥涂膠機                                                                                          汶顥自動噴淋顯影清洗一體機

半導體生產(chǎn)中有前道工藝和后道工藝， 前道工藝指的是從硅片加工開始直到在硅片上制成集成電路結束的工藝流程。涂膠顯影設備作為集成電路制造前道晶圓加工環(huán)節(jié)的重要工藝設備，在晶圓廠設備采購中占有十分重要的地位。近年來芯片的發(fā)展一度成為各國間的角逐點，帶動全球晶圓廠設備的需求，也使得全球前道涂膠顯影設備份額呈現(xiàn)增長態(tài)勢。

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