“邊膠”的形成原因和帶來的不利影響

光刻膠旋涂是特別是厚膠的旋涂和方形襯底勻膠時，會在襯底的邊緣形成膠厚的光刻膠邊即是所謂的邊膠，即光刻膠的邊緣突起，在使用接觸式光刻的情況下是有問題的：

由于邊緣光刻膠的溶劑殘留量高，即使在前烘后，掩膜板也會粘附在光刻膠膜上，會污染掩膜板。在曝光過程中，邊珠還會在光刻膠膜和掩膜板之間充當不必要的間隙，這通常會導致光刻膠曝光的圖案分辨率低、尺寸誤差大或顯影后圖案的側壁不陡直等。

消除“邊膠”的措施

如果無法通過自動化設備完成去邊角工藝（EBR）的話，以通過以下措施幫助減少/消除邊膠:

盡可能使用圓形基底:使用配套EBR溶劑，利用一個帶有細噴嘴的洗瓶，在500 rpm左右動態(tài)去除邊膠；

使用一種以足夠高的旋轉速度(3000-4000rpm/min)達到目標膜厚的膠膜；

對于非常厚的光刻膠：利用較高的加速度，在短時間內獲得較高的旋轉速度 ；

當光刻膠層已經(jīng)足夠干燥，但邊膠仍然有足夠的液體時，在旋涂工藝末端突然增加旋轉速度使邊膠脫離；

膠層與前烘之間的等待時間取決于抗蝕涂層的厚度和殘留溶劑的含量，以防止在高前烘溫度下膠層的粘度突然升高而增加邊膠效應(可使用分步干燥: 室溫->50°C->95°C)；

調整良好旋涂腔室保證襯底與襯底托盤之間緊密接觸；

非圓形襯底: 如有可能的話，可將襯底邊緣片與邊緣珠一起裁切掉，或用潔凈間的刷子將邊膠刷洗掉。

除此之外，多次旋涂也是導致邊膠的重要原因之一，這種情況下，在前次涂膠完成后，烘烤有助于防止在下次涂膠過程中光刻膠再次溶解，從而減小邊膠效應。

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