SU-8光刻膠常用2000系列、3000系列到貨啦，美國(guó)原裝進(jìn)口，無(wú)需預(yù)定！無(wú)需等待！

新型的化學(xué)增幅型負(fù)像 SU-8 膠是一種負(fù)性、環(huán)氧樹脂型、近紫外線光刻膠，克服了普通光刻膠采用 UV光刻導(dǎo)致的深寬比不足的問(wèn)題，十分適合于制備高深寬比微結(jié)構(gòu)。

SU-8光刻膠的優(yōu)點(diǎn)：

1、SU-8光刻膠在近紫外光(365nm- 400nm)范圍內(nèi)光吸收度很低，且整個(gè)光刻膠層所獲得的曝光量均勻一致，可得到具有垂直側(cè)壁和高深寬比的厚膜圖形；

2、SU-8光刻膠具有良好的力學(xué)性能、抗化學(xué)腐蝕性和熱穩(wěn)定性；

3、SU-8在受到紫外輻射后發(fā)生交聯(lián)，是一種化學(xué)擴(kuò)大負(fù)性膠，可以形成臺(tái)階等結(jié)構(gòu)復(fù)雜的圖形；

4、SU-8膠不導(dǎo)電，在電鍍時(shí)可以直接作為絕緣體使用。

由于具有較多優(yōu)點(diǎn)，SU-8 膠正被逐漸應(yīng)用于 MEMS、芯片封裝和微加工等領(lǐng)域。目前，直接采用 SU8 光刻膠來(lái)制備深寬比高的微結(jié)構(gòu)與微零件已經(jīng)成為微加工領(lǐng)域的一項(xiàng)新技術(shù)。在微流控芯片加工中，SU-8主要用于快速模塑法加工PDMS微流控芯片。

運(yùn)用SU8光刻膠加工模具澆鑄PDMS芯片示意圖