如何選擇正確的旋涂機（勻膠機）用于SU-8微流控模具的光刻技術？

旋涂機（勻膠機）用于微流控模具的光刻，以 在基底上涂覆光致抗蝕劑層（例如SU-8）。它們適用于各種光刻膠，因此對于SU-8光刻應用來說，驗證一些參數(shù)非常重要，以確保您的設備能夠根據(jù)您的需求進行微調(diào)。本指南的目的是為想要購買用于SU-8模具制造的旋涂機的研究人員提供相關要點。

光刻膠涂層簡介

基材上的光致抗蝕劑涂層可以以多種方式制造，最常用的是旋涂涂層，將液體光致抗蝕劑涂覆在旋轉的基材上。但是它也存在噴涂層，其包括從噴嘴向襯底上投射液體光刻膠。最后，還有與樹脂干膜一起工作的層壓技術。

旋涂光刻膠

將光致抗蝕劑放置在基底的中央; 光刻膠的速度，加速度和粘度將決定該層的厚度。與以前的方法相反，這種方法使用了比所需更多的光致抗蝕劑，因為95％的光致抗蝕劑在旋轉過程中會損失掉。但是，它是實驗室中使用最多的方法，因為光刻膠的旋涂很容易使用且真正可重復使用。

噴涂光刻膠

對于噴涂而言，光刻膠必須是真正的液體，通常需要用溶劑稀釋。該混合物使得該過程在涂覆的光致抗蝕劑層的厚度上非常難以重復。這種涂層通常需要很大的設備，并且噴嘴在襯底上的一定數(shù)量的通過使得可以具有均勻的層。這種技術的最大優(yōu)點是能夠在高的地形上沉積均勻的光致抗蝕劑層。由于光致抗蝕劑的高粘度，光致抗蝕劑層厚度的選擇受限于薄值以確保具有與厚值相同的均勻層。

樹脂層壓

通過層壓，可以將固體樹脂涂覆成具有給定厚度的干膜。主要優(yōu)點是有可能創(chuàng)建懸浮結構。該膠片可以直接用不同的供應商購買，也可以通過在塑料基材上旋涂完成。

如何選擇用于SU-8光刻的勻膠機？

旋涂機的最高速度和加速度

為了控制厚度，必須精確調(diào)整旋轉速度和加速度。這兩個參數(shù)可能是選擇旋涂機最重要的參數(shù)。基材的旋轉速度幾乎可以自行消除樹脂涂層的厚度。根據(jù)樹脂提供商，可以預測厚度。請注意，厚度的變化與速度不成線性關系。市場上的大多數(shù)旋涂機都會達到SU-8微流控模具光刻所需的速度（SU-8旋涂速度通常低于6000 rpm）。請注意加速設置功能，因為某些型號無法為光刻膠旋涂的不同步驟設置不同的加速度。

旋轉涂布機的晶圓固定系統(tǒng)

基材可以用不同的方法固定在旋涂機上。一個機械卡盤可以使晶圓真正居中在旋轉的頭上。然而，用于保持晶片的引腳會干擾旋轉期間的樹脂噴射，并因此在晶片的邊緣上產(chǎn)生更多的缺陷。使用真空吸盤可以解決這個問題，并且能夠形成一個非常水平的表面（在密封狀態(tài)良好的情況下）。因此它需要在旋涂機上增加一個真空泵。更重要的是，必須檢查真空管道內(nèi)沒有液體（樹脂或溶劑）進入并打破旋涂機。