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'關(guān)鍵字: 光刻機(jī)'
- 細(xì)說接觸式光刻機(jī)的使用原理及性能指標(biāo)大家也許還不是非常的清楚,光刻機(jī)的種類有非常的多,其中的技術(shù)原理也不盡相同,下面就由我來給大家簡單介紹一下有關(guān)接觸式光刻機(jī)的使用原理及性能指標(biāo)。接觸式光刻機(jī)的使用原理:其實(shí)在我...2023-08-04 08:55:03
- 光刻機(jī)是光刻工藝的核心設(shè)備? ? ? ??光刻機(jī)(lithography)又名:掩模對準(zhǔn)曝光機(jī),曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等,是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù),把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光...2022-11-22 08:50:23
- 光刻機(jī)——現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花光刻機(jī)——現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花光刻機(jī),被稱為現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花,制造難度非常大,全世界只有少數(shù)幾家公司能夠制造。其售價(jià)高達(dá)7000萬美金。用于生產(chǎn)芯片的光刻...2022-11-17 09:58:03
- 光刻機(jī)光刻機(jī)2020-08-19 09:16:46
- 一文看懂光刻機(jī)較大的情況。9)去膠刻蝕完成后,通過特定溶劑,洗去硅片表面殘余的光刻膠。光刻機(jī): 半導(dǎo)體制造業(yè)皇冠上的明珠光刻機(jī)根據(jù)應(yīng)用工序不同,可以分為用于生產(chǎn)芯片...2018-05-16 08:59:54
- URE-2000/A8紫外單面光刻機(jī)1、設(shè)備主要技術(shù)指標(biāo):(1) 曝光面積:?200mm×200mm;?(2)分辨力:?3mm;(3)對準(zhǔn)精度:±2mm;(4)掩模尺寸:5英寸、7英寸、...2018-05-02 13:42:31
- URE-2000/30型光刻機(jī)9個(gè)透鏡)、i線濾光片、場鏡、冷光反射鏡1、反射鏡2(2)對準(zhǔn)工件臺(tái)l?光刻機(jī)底座l?工位切換臺(tái)(氣缸)l?掩模樣片整體運(yùn)動(dòng)臺(tái)l?掩模樣片相對運(yùn)動(dòng)臺(tái)l...2018-05-02 13:33:01
- URE-2000/17型光刻機(jī)(臺(tái)式)URE-2000/17型紫外深度光刻機(jī)技術(shù)特點(diǎn):?????????采用雙目雙視場顯微鏡對準(zhǔn);球碗調(diào)平,單片機(jī)控制,觸摸開關(guān),操作方便、實(shí)用性強(qiáng)。?1.技術(shù)參數(shù)l?曝光面積:4英寸l?...2018-05-02 13:27:42
- Nikon光刻機(jī)對準(zhǔn)機(jī)制和標(biāo)記系統(tǒng)研究步進(jìn)式重復(fù)曝光光刻機(jī)出現(xiàn)于上世紀(jì)80年代早期,從那時(shí)起直至90年代后期出現(xiàn)第一臺(tái)準(zhǔn)分子激光光刻機(jī)商品為止,各種各樣的G線、I線光刻機(jī)統(tǒng)治了集成電路制造中的光刻工藝。...2018-01-31 09:33:17
- 投影式光刻機(jī) Projection Photoetching Machines投影式光刻機(jī)一般采用步進(jìn)-掃描式曝光。光源并不是一次把整個(gè)掩模上的圖形投影在晶圓上,曝光系統(tǒng)通過一個(gè)狹縫式曝光帶(slit)照射在掩模上,如1(a)所示。載...2017-12-29 09:04:54
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