• 光掩膜基版在光刻中的作用蝕刻、脫膜等，其中光刻是核心環(huán)節(jié)。在光刻過程中，掩膜版上的設(shè)計(jì)圖案通過光刻機(jī)曝光到光刻膠上，然后通過后續(xù)的蝕刻步驟來實(shí)現(xiàn)圖形的轉(zhuǎn)移。技術(shù)挑戰(zhàn)： 隨著技...2024-10-09 09:10:06
• 投影式光刻機(jī) Projection Photoetching Machines間，從而提高光刻機(jī)的產(chǎn)能。（d）掩模狹縫投影成像原理圖1 步進(jìn)-掃描式光刻機(jī)曝光方式示意圖曝光掃描結(jié)束后，曝光系統(tǒng)步進(jìn)式移動到下一個(gè)位置。圖1（c）是...2017-12-29 09:04:54
• 光刻機(jī)三種曝光方式優(yōu)缺點(diǎn)對比接觸式曝光接觸式曝光是將掩膜與待加工基片的光膠層直接接觸進(jìn)行的曝光。掩膜和基片通過機(jī)械裝置壓緊或通過真空吸住等方法實(shí)現(xiàn)兩者緊密接觸。優(yōu)點(diǎn)：設(shè)備簡單、造...2017-10-25 09:49:06