• 對準(zhǔn)工作原理片對準(zhǔn)誤差、工件臺(tái)重復(fù)步進(jìn)定位誤差（或步進(jìn)和掃描誤差）、運(yùn)動(dòng)模型誤差、對準(zhǔn)標(biāo)記制作誤差、激光干涉儀的測量誤差、機(jī)器的安裝誤差、掩模版預(yù)對準(zhǔn)誤差、硅片...2018-07-27 09:05:43
• 芯片光刻的流程詳解（上）是把掩膜版上的Y軸與晶園上的平邊成90?，如圖所示。接下來的掩膜版都用對準(zhǔn)標(biāo)記與上一層帶有圖形的掩膜對準(zhǔn)。對準(zhǔn)標(biāo)記是一個(gè)特殊的圖形（見圖），分布在每...2018-07-12 08:36:24
• 光刻技術(shù)圖形轉(zhuǎn)移工藝二：光刻材料及設(shè)備????2、對準(zhǔn)????對準(zhǔn)指光刻掩膜版與光刻機(jī)之間的對準(zhǔn)，二者均刻有對準(zhǔn)標(biāo)記，使標(biāo)記對準(zhǔn)即可達(dá)到光刻掩膜版與光刻機(jī)的對準(zhǔn)。5.顯影顯影就是用顯影液...2018-06-07 08:41:19
• Nikon光刻機(jī)對準(zhǔn)機(jī)制和標(biāo)記系統(tǒng)研究較大的差別，有自己的特色。在Nikon系列光刻機(jī)的對準(zhǔn)方案中，用到三類對準(zhǔn)標(biāo)記:對版標(biāo)記、硅片粗對標(biāo)記和硅片精對標(biāo)記。此外，還有與各類標(biāo)記相對應(yīng)的傳...2018-01-31 09:33:17
• 光刻基本操作步驟”）HOW?MANY?WAFERS?=?_1_待片子上到載片臺(tái)后，手動(dòng)對準(zhǔn)標(biāo)記進(jìn)行曝光，顯影，檢驗(yàn)，確認(rèn)無誤后，對硅片繼續(xù)進(jìn)行曝光曝光時(shí)間確定表顯影...2017-10-25 09:31:42
• URE-2000/25型光刻機(jī)操作說明以及特性介紹m。對于薄膠（膠厚小于?5?m）?，通過監(jiān)視器可以同時(shí)看?到掩模和硅片對準(zhǔn)標(biāo)記，可直接通過計(jì)算機(jī)監(jiān)視器，調(diào)節(jié)對準(zhǔn)工件臺(tái)進(jìn)行?對準(zhǔn)。對于厚膠，首先通過...2017-10-24 11:32:15
• 光刻機(jī)的簡單介紹大倍率的目鏡和物鏡供用戶組合使用）。CCD對準(zhǔn)系統(tǒng)作用是將掩模和樣片的對準(zhǔn)標(biāo)記放大并成像于監(jiān)視器上。工件臺(tái)顧名思義就是放工件的平臺(tái)，光刻工藝最主要的...2016-04-18 11:54:16