• 什么叫光刻膠的正膠顯影和負膠顯影什么叫光刻膠的正膠顯影和負膠顯影正膠顯影：正性光刻膠的曝光區(qū)的光刻膠在顯影液中溶解，在光刻膠上形成三維圖形。?負膠顯影：在負性光刻膠的非曝光區(qū)的光刻膠在顯影液中溶解，在光刻...2022-10-18 08:22:43
• Microchem SU-8光刻膠 2000系列光刻膠型號及參數(shù)光刻膠名稱型號勻膠厚度規(guī)格MicroChem SU-8 負膠SU-8 2000.50.5-0.8μm100ml;500ml;1L;1...2024-03-28 10:07:48
• 光刻工藝中的顯影技術(shù)光后的光刻膠含有很多酸性基團，所以顯影液一般為微堿性的溶液。負性光刻膠當負膠受到曝光時，由于光敏基團的反應(yīng)，光刻膠中的聚合物分子會交聯(lián)為網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，使...2025-06-09 09:41:00
• 微流控中的烘膠技術(shù)交聯(lián)強度逐漸增強，這可以顯著提高光刻膠對堿性或有機溶劑的化學穩(wěn)定性。對于負膠，烘烤可能會導(dǎo)致光刻膠交聯(lián)程度增加，特別是在負膠工藝中使用的堅膜溫度高于...2025-01-07 10:20:54
• 光刻膠的一般特性介紹與光刻膠的選擇比或者lift-off層厚度加以綜合考慮。正膠的過曝過顯和負膠的過曝欠顯都會影響分辨率。烘烤溫度過高，使得光刻膠軟化流動也會破壞曝光圖...2024-07-10 09:14:55
• 光刻膠的圖形反轉(zhuǎn)圖形反轉(zhuǎn)膠是比較常見的一種紫外光刻膠，它既可以當正膠使用又可以作為負膠使用。相比而言，負膠工藝更被人們所熟知。本文重點介紹其負膠工藝。應(yīng)用領(lǐng)域在反轉(zhuǎn)工藝下，通過適當?shù)墓に噮?shù)，可以獲得底切的側(cè)壁形態(tài)。這種方法的主要...2024-07-09 09:32:09
• 光刻膠去膠工藝常見。由于超短波輻射的穿透深度較低，所以只有光刻膠的表面受到交聯(lián)的影響。負膠在較高的溫度下處理其交聯(lián)可以通過后續(xù)的工藝步驟進一步加強，這步會導(dǎo)致光刻...2024-07-05 09:43:47
• 微流控芯片一般光刻工藝過程增大曝光劑量，也取決于需要的分辨率，最大的分辨率要求最高的曝光劑量。對于負膠未曝光區(qū)域顯影30~40s厚度1-2um對應(yīng)的清零曝光劑量，這個曝光劑量...2024-07-04 09:13:40
• 光刻膠后烘技術(shù)光刻膠的種類，通常在100-110℃的溫度下持續(xù)幾分鐘。圖形反轉(zhuǎn)膠和交聯(lián)負膠機理像AZ5214E這樣的圖形反轉(zhuǎn)膠在反轉(zhuǎn)工藝下需要在曝光后進行后烘工藝...2024-07-03 09:15:13
• 光刻膠顯影在化學性質(zhì)上與未暴光的區(qū)域不同，在特定的化學溶液中選擇性的保留曝光區(qū)域（負膠）或者未曝光區(qū)域（正膠）的過程。從而獲得最終所需的光刻膠結(jié)構(gòu)。在前面的一...2024-07-02 09:36:33